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半导体行业 半导体光刻胶配套试剂生产超纯水 EPC 项目-1

半导体行业 半导体光刻胶配套试剂生产超纯水 EPC 项目

光刻胶、显影液、剥离液电子化学品生产项目,配料、清洗、产品精制工序使用超纯水。水中有机物、阴阳离子、微生物会直接影响光刻胶稳定性,引发光刻缺陷。设计产水规模 55m³/h 超纯水;项目为老厂区改造,施

  • 配套产品:无菌纯化系统
  • 项目地址:上海市临港新片区精细化工半导体配套园区
  • 所属行业:半导体行业(半导体电子化学品、光刻胶配套试剂生产)

项目概况

光刻胶、显影液、剥离液电子化学品生产项目,配料、清洗、产品精制工序使用超纯水。水中有机物、阴阳离子、微生物会直接影响光刻胶稳定性,引发光刻缺陷。设计产水规模 55m³/h 超纯水;项目为老厂区改造,施工空间狭窄,施工期间不能影响园区现有企业供水;出水电阻率≥17.8MΩ・cm,TOC<3ppb。

定制解决方案

工艺流程:原水→多介质过滤→活性炭→超滤→双级反渗透→EDI→TOC 紫外降解→抛光纯化→无菌终端过滤→超纯水供给。定制优化措施:
  1. 采用紧凑型分层布局,适配老旧厂区狭小场地;

  2. 分阶段施工,新旧管线临时接驳,保障园区供水不受干扰;

  3. 整套系统采用无菌设计,定期自动消毒,严控微生物;

  4. 药剂接触部件选用耐化学腐蚀洁净材质;

  5. 配套水质留样采集点位,满足化学品行业质检溯源要求。

项目运行成效和优势

改造施工全程未造成周边企业停水;超纯水水质稳定匹配电子化学品生产标准;光刻胶批次稳定性提升,储存周期延长;自动化运维减少人工干预,降低人为污染风险。

老厂区改造专项施工方案,不影响现有生产;电子化学品专用无菌超纯水工艺;紧凑型模块化布局,适配存量厂区改造;完善水质留样监测体系,契合精细化工品控标准。

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