本企业专注半导体 CMP 化学机械抛光液研发与生产，抛光液配制、原料稀释、产品清洗环节，超纯水是核心原料，水中金属离子、颗粒物会直接改变抛光液性能，造成晶圆抛光缺陷。企业新建 EPC 总包超纯水项目，
本企业专注半导体 CMP 化学机械抛光液研发与生产，抛光液配制、原料稀释、产品清洗环节，超纯水是核心原料，水中金属离子、颗粒物会直接改变抛光液性能，造成晶圆抛光缺陷。企业新建 EPC 总包超纯水项目，设计产水 40m³/h，出水电阻率≥18.2MΩ・cm，TOC≤8ppb，金属离子 ppt 级别控制，满足抛光液生产用水；原水市政自来水；厂房纯水站空间狭小；高纯水路必须严控溶出污染；系统 24 小时连续运行，需要具备冗余；项目工期紧张，要匹配抛光液产线投产节点，同时满足洁净车间相关配套要求。
EPC 交钥匙总承包模式，工艺路线：原水预处理→多介质过滤→活性炭过滤→超滤→双级反渗透→EDI→UV‑TOC 降解→抛光混床→多级终端精密超滤→氮封超纯水箱。后端超纯水段全部选用 PVDF 高纯管路阀门，消除金属离子溶出；EDI、抛光单元设置冗余，支持单台检修不停产；配置高精度电阻率、TOC、金属离子取样监测、颗粒计数器；PLC 全自动控制，关键水质超标自动报警联锁停机；高纯管路焊接执行洁净施工标准，焊口 100% 内窥镜检测，完成之后大流量循环冲洗，水质检测合格交付；设备紧凑撬装布置，节约厂房占地；完成土建、设备就位、管路施工、联动调试；交付全套竣工资料，开展超纯水系统运维培训。
系统稳定产出 40m³/h 超纯水，电阻率稳定≥18.2MΩ・cm，TOC、颗粒、金属离子指标全部达到抛光液生产工艺标准，保障 CMP 抛光液产品批次稳定性，减少产品不合格率。焊口内窥镜检测 + 管路循环冲洗，最大限度降低管路施工带来的杂质污染风险；冗余模块保障抛光液生产线不间断供水；高精度在线仪表实时监控水质风险点，异常及时报警。EPC 总包一站式完成工艺、高纯设备、特种管路施工，严格把控施工质量与项目工期，匹配产线投产进度；撬装紧凑布置适配狭小厂房空间；系统自动化运行，降低运维难度，为抛光液产品稳定量产提供可靠的超纯水保障。
