半导体产业园公用工程集中超纯水站 EPC 总承包项目
本项目为半导体产业园集中公用超纯水站 EPC 总承包项目,设计产水规模 240m³/h,为园区多家芯片、封测企业统一供应超纯水,产水电阻率≥18.1MΩ・cm。园区内多家企业分期入驻,用水量逐步释放;
项目概况
本项目为半导体产业园集中公用超纯水站 EPC 总承包项目,设计产水规模 240m³/h,为园区多家芯片、封测企业统一供应超纯水,产水电阻率≥18.1MΩ・cm。园区内多家企业分期入驻,用水量逐步释放;超纯水站需要建设长距离高纯外输管网,输送至各个工厂动力站;原水为城市中水作为补水原水,原水有机物、盐离子波动较自来水更大。项目采用 EPC 交钥匙总承包,总承包负责全套工艺设计、设备采购、土建水池泵房、大型高纯外输管网、自控系统、管路冲洗钝化、调试、性能考核、移交。作为园区公用工程,供水可靠性要求极高,一旦故障会影响多家半导体企业生产;中水原水水质波动,对预处理、膜系统抗污染能力提出更高要求;长距离高纯管网需要控制水质衰减,施工焊接、冲洗钝化工作量巨大。
定制解决方案
总承包针对中水原水与园区集中供水模式,采用 “强化预处理‑超滤‑双级反渗透‑EDI‑抛光混床‑双波长 UV‑脱气‑终端过滤‑园区高纯外输管网” 工艺路线。强化预处理单元针对中水原水,去除有机物、悬浮物、胶体;超滤作为反渗透保护屏障;双级反渗透脱盐;EDI 深度脱盐;抛光混床保障离子指标;UV 降解 TOC;脱气膜去除溶解氧;终端过滤去除颗粒;设计大流量循环外输管网,避免长距离输送水质衰减。总承包范围内完成纯水站土建构筑物、园区高纯外输管网全部施工;全部工艺与外输管路采用 316L‑EP 高纯管道,全自动轨道焊接,分段开展吹扫、循环冲洗、钝化。系统多列模块化并联,可根据园区入驻企业数量灵活投运列数,预留扩容空间;自控系统对接园区公用总控平台,全水质参数在线监测,多级联锁保护,单系列检修不停产。分段调试管网,逐段完成冲洗钝化;完成 72h 性能考核,交付全套竣工资料,开展运维人员培训,实现 EPC 交钥匙交付。
项目运行成效和优势
集中超纯水站稳定为园区多家半导体企业供给合格超纯水,长距离循环外输管网有效控制水质衰减,各企业用水点指标均满足半导体工艺标准。强化预处理工艺适配中水原水,有效抑制膜元件污堵;模块化并联运行适配企业分期入驻,按需调节产水规模。EPC 总承包一站式完成站内系统 + 园区长距离高纯管网设计、供货、焊接、冲洗、调试,规避管网分段建设带来的高纯施工质量风险。公用站高冗余架构,保障多家企业同时生产用水。整套 EPC 总承包模式适合半导体产业园集中公辅纯水建设。