该 12 英寸晶圆厂工艺循环冷却水系统循环水量 18000m³/h，为光刻机、刻蚀机、薄膜沉积等核心精密半导体设备提供恒温冷却用水。半导体设备对冷却水洁净度要求极高，微小颗粒杂质会造成精密换热器流道磨
该 12 英寸晶圆厂工艺循环冷却水系统循环水量 18000m³/h，为光刻机、刻蚀机、薄膜沉积等核心精密半导体设备提供恒温冷却用水。半导体设备对冷却水洁净度要求极高，微小颗粒杂质会造成精密换热器流道磨损、堵塞，直接影响机台温控精度，诱发晶圆良率下降。原有过滤系统过滤精度不足，开放式冷却塔带入粉尘、微生物，管道锈蚀产生微量金属颗粒；过滤器自动化程度偏低，堵塞预警滞后，杂质持续进入精密冷却支路。一旦冷却水质波动，机台温度漂移会直接导致批次晶圆报废，经济损失巨大。厂区原有维保仅开展故障维修，缺少预防性精细化运维，企业启动高精度旁滤系统改造，建立全年标准化维保体系，保障核心机台冷却水质稳定。
在工艺循环回水总管增设旁路精密过滤单元，安装 4 台食品级 316L 高精度自清洗过滤器，过滤精度 15μm，满足半导体洁净循环水颗粒控制指标；采用并联冗余布置，支持单台在线隔离检修，不中断全厂工艺冷却水供给。配套加装高精度在线浊度、颗粒计数监测仪表，PLC 根据压差、水质双重信号启动自适应自清洗，避免过度清洗带入二次污染。过滤器内壁采用抛光处理，减少杂质粘附滋生生物膜；排污管路增设收集缓冲罐，防止排污冲击水池扰动水体。制定半导体洁净车间标准维保方案：每月校验仪表、检查密封无渗漏；每半年解体抛光清洗滤网；每年全面检测内部抛光面腐蚀情况。改造全程管控洁净施工，避免粉尘污染循环水系统，所有管路焊缝钝化处理。
高精度旁滤系统投运后循环水中固体颗粒持续稳定拦截，冷却水浊度长期稳定低于 0.8NTU，有效避免微小硬质颗粒进入光刻机、刻蚀机精密冷却通道，机台温控稳定性显著提升，因冷却水质问题造成的晶圆良率损失基本消除。双重条件智能自清洗模式减少无效反洗，避免水体扰动带来二次杂质；设备内壁抛光工艺抑制微生物附着，减少生物粘泥产生。并联冗余架构保障维保期间不间断供水，满足半导体工厂全年 365 天连续生产要求。标准化洁净等级维保方案，严格管控拆装过程洁净度，防止外来污染物进入水循环。系统运行数据接入工厂 BMS 楼宇管理平台，便于水务集中管控，助力晶圆厂满足半导体洁净生产、高精度温控严苛标准，降低核心设备维修更换成本。
