12 英寸晶圆制造厂 45000m³/h 工艺循环冷却水 EPC 总包项目
临港 12 英寸先进晶圆厂新建工艺循环冷却水系统，总循环水量 45000m³/h，为光刻、刻蚀、薄膜沉积等核心工艺腔体配套冷却。半导体先进制程对冷却系统要求极高，供水温度波动要求≤±0.3℃，水体悬浮
项目概况
临港 12 英寸先进晶圆厂新建工艺循环冷却水系统，总循环水量 45000m³/h，为光刻、刻蚀、薄膜沉积等核心工艺腔体配套冷却。半导体先进制程对冷却系统要求极高，供水温度波动要求≤±0.3℃，水体悬浮物、离子含量严格管控，铁锈、杂质会造成精密腔体故障；洁净厂房周边空气控制严格，不允许开式冷却塔产生水雾、扬尘。厂区洁净区附近空间紧张，循环水设备布局受限；生产线全年不间断运行，冷却系统不允许非计划停机。系统必须具备极高可靠性、冗余设计，同时满足洁净工厂环保、噪声管控标准，配套完善漏液监测、故障快速切换机制。
定制解决方案
全部采用全密闭不锈钢闭式循环系统，彻底杜绝外界污染物进入水体；循环管路选用 EP 抛光不锈钢管道，减少腐蚀产物析出。系统设置两级精密过滤器，持续控制水体颗粒物指标；独立配置板式恒温换热单元，搭载高精度温度传感器与变频调控系统，稳定实现供水温度波动≤±0.3℃。所有主泵、冷源设备全部 N+1 冗余配置，单台设备故障自动切换备用机组。部署高灵敏度漏液监测传感器，出现微量泄漏第一时间报警。设备采取降噪结构设计，满足洁净厂房噪音标准；自控系统接入 Fab 厂中央楼宇控制系统，实现统一调度，提供完整洁净系统 SOP 运维规范与专项人员培训。
项目运行成效和优势
闭式洁净循环方案完全满足 12 英寸先进晶圆厂严苛水质与温控指标，温度波动长期稳定控制在 ±0.25℃以内，保障光刻、刻蚀工艺稳定性，降低晶圆良率波动风险。N+1 冗余设计实现无间断冷却，投产至今未发生冷却中断造成产线停机。系统密闭无水雾、无扬尘，契合洁净厂区环境管控要求；精密过滤持续维持水体洁净，精密工艺腔体故障率显著下降。整套国产 EPC 总包方案相比进口成套系统缩短交付周期、降低投资与运维备件成本。方案覆盖先进制程晶圆厂核心痛点：高精度恒温、高洁净、高可靠性，是国内半导体制造循环冷却水标杆解决方案。
