OLED和Micro-LED的TFT（薄膜晶体管）阵列制造对水质要求仅次于半导体逻辑芯片。特别是Micro-LED的巨量转移和微缩化工艺，对水中的金属离子（Na, K, Ca, Fe）和颗粒（>0.1
1，阵列级超纯水精制：主系统采用“UF+双级RO+EDI+TOC-UV+抛光混床+终端0.1μm UF”。针对钠、钾等碱金属，抛光混床采用对碱金属具有极高选择性的特种树脂；终端UF采用中空纤维PFA膜，确保>0.1μm颗粒<1个/mL。
2，复杂中水深度回用：面板废水含光刻胶、剥离液和重金属。中水回用系统采用“混凝沉淀+臭氧催化氧化+浸没式MBR（膜生物反应器）+双级RO”。MBR采用抗污染型PTFE（聚四氟乙烯）平板膜，彻底拦截大分子有机物和悬浮物，确保RO进水SDI<2。
3，防细菌滋生与管网控制：面板厂用水存在明显的班次峰谷。纯水管网采用全循环大流量设计，流速始终保持在>1.5m/s，防止死水区细菌滋生。储罐配备高纯氮气密封和呼吸器，隔绝空气微粒。
1，保障微缩化良率：产水中Na、K等碱金属离子稳定在<0.5ppb，>0.1μm颗粒<0.5个/mL。有效避免了TFT阈值电压漂移和像素暗斑，Micro-LED巨量转移良率提升2%。
2，高回用率与膜寿命：PTFE平板MBR和臭氧催化的组合，使系统对复杂面板废水具有极强的耐受能力。RO膜进水SDI稳定<1.5，膜化学清洗周期延长至6个月，中水回用率稳定在75%以上。
3，管网水质长期稳定：全循环大流量设计和氮气密封，使管网末端水质与主系统产水水质完全一致，彻底消除了停机期间细菌繁殖导致的TOC超标风险。
