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广州碳化硅半导体超纯水总承包项目-1

广州碳化硅半导体超纯水总承包项目

广州新粤能半导体专注于8英寸碳化硅宽禁带半导体芯片研发与量产,碳化硅芯片制程精度更高、工艺更复杂,对超纯水的金属离子、微量杂质、有机物、溶解氧管控标准远超传统硅基芯片,水质微小偏差会直接导致芯片良率大

  • 配套产品:碳化硅半导体超纯水EPC总承包、特种纯水
  • 项目地址:广州新粤能半导体产业园
  • 所属行业:半导体行业

项目概况

广州新粤能半导体专注于8英寸碳化硅宽禁带半导体芯片研发与量产,碳化硅芯片制程精度更高、工艺更复杂,对超纯水的金属离子、微量杂质、有机物、溶解氧管控标准远超传统硅基芯片,水质微小偏差会直接导致芯片良率大幅下滑。企业新建8英寸碳化硅量产线,急需配套专属高标准超纯水系统,设计产水规模80m³/h,日均产水1920m³,出水电阻率≥18.25MΩ·cm,TOC≤0.8ppb、金属离子总量≤0.05ppb,达到碳化硅半导体专属用水顶级标准。本次总承包服务需针对碳化硅制程特殊需求定制工艺,完成系统设计、精密设备选型、无尘安装、精准调试、长期运维全流程服务,保障系统适配高端宽禁带半导体生产工况。

定制解决方案

深度结合8英寸碳化硅半导体芯片高端制程的极致用水需求,定制专属超纯水总承包工艺方案,突破传统纯水工艺短板。前端采用超精细化预处理工艺,集成软化、精密超滤、活性炭精吸附、保安微滤多重工艺,全方位拦截原水各类杂质,深度去除水体有机物、硬度离子,为高端纯水制备奠定极致进水基础。核心采用进口高精密双级反渗透+超低残留EDI除盐工艺,针对性去除水中微量重金属离子、可溶性杂质,大幅降低水体污染物残留。末端配置双级高端抛光混床+真空脱气+紫外TOC深度降解系统,精准管控溶解氧、微量有机物、超细微粒,将水质提纯至碳化硅半导体专用顶级标准。配套无菌恒温供水系统,精准控制水温、水压,保障生产用水全程稳定无波动。搭建专属工业智能监控系统,针对碳化硅制程关键水质指标进行高频次实时监测、数据溯源、异常预警,可根据生产制程负荷智能调节系统运行状态。整套设备采用超高洁净密闭设计,全程杜绝二次污染,适配高端半导体无尘车间生产环境。

项目运行成效和优势

系统投运后,超纯水各项指标稳定达到碳化硅半导体顶级用水标准,水质纯度、稳定性、洁净度完全适配8英寸碳化硅芯片光刻、刻蚀、外延等核心制程需求,彻底解决了传统纯水系统微量杂质超标难题,企业碳化硅芯片生产良率提升5%以上,高端宽禁带半导体产品品质和产能实现双重突破。专属定制工艺针对性适配碳化硅特殊制程,相比通用半导体纯水系统,杂质管控精度提升30%,更贴合高端新型半导体生产需求。智能精准管控系统实现水质、设备、能耗全方位精细化管理,设备运行零故障、水质零波动,完美适配24小时不间断量产工况。系统节水节能效果突出,水利用率、能耗指标均优于行业标准,长期运行经济性显著。整套系统工艺先进、精度顶级、稳定性极强,有效支撑企业高端碳化硅半导体芯片国产化量产,助力企业突破新型半导体材料制程用水技术壁垒,树立行业高端水处理标杆。

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