本半导体电子材料企业，生产光刻胶配套电子化学品，纯水站产水 320m³/h，供给工艺配料、设备清洗；同时配套工艺回用水站，回收清洗废水处理之后再利用。纯水工艺：预处理‑双级反渗透‑EDI；回用水工艺：
本半导体电子材料企业，生产光刻胶配套电子化学品，纯水站产水 320m³/h，供给工艺配料、设备清洗；同时配套工艺回用水站，回收清洗废水处理之后再利用。纯水工艺：预处理‑双级反渗透‑EDI；回用水工艺：预处理‑反渗透。电子化学品生产对纯水的电阻率、TOC、离子含量要求严格，水质波动直接影响电子化学品产品品质。原有纯水站、回用水站两套系统各自独立，反渗透、EDI 清洗再生采用固定时间，药剂手动调节投加；在线监测仪表部分缺失，关键水质参数不全；缺少完善进水联锁保护，进水水质异常时膜系统依旧运行，造成膜污染加速。两套水处理系统没有统一监控，没有接入厂务系统；运行数据依靠纸质记录，水质出现异常，缺少过程数据回溯。企业 24 小时连续生产，纯水供给不能中断，希望通过电气智能化改造，实现纯水‑回用水一体化智能管控，稳定水质，延长膜耗材寿命，减少人工，对接厂务平台。
保留过滤罐体、RO 膜、EDI 模块、回用水处理设备本体，采用一套 PLC 系统统一管控纯水站、回用水站两套子系统。补齐电阻率、TOC、SDI、浊度、压差、流量、液位高精度在线仪表。优化控制逻辑：预处理过滤器压差‑时间双重条件自动反洗；反渗透高压泵软启动，进水水质不合格联锁旁路保护；EDI 根据产水水质动态调整运行参数；阻垢剂、还原剂闭环自动投加；产水泵根据纯水罐、回用水罐液位变频自适应调节。搭建统一本地 SCADA 监控平台，画面同时展示纯水、回用水全工艺流程，存储全部水质、压差、能耗历史数据，建立膜元件性能衰减预判，推送维护提醒。通过网关对接半导体厂务监控系统，厂务平台获取两套水系统全部工况；设置水质超标、压差超限、设备故障声光 + 短信告警。项目分模块错峰调试，保障纯水不间断产出，回用水系统分批停机升级；控制硬件满足电子材料车间洁净环境。
改造之后，纯水站与回用水站实现一体化智能化管控，膜系统依靠压差、水质触发清洗再生，不再单纯依靠固定周期，预判膜元件衰减，提前推送维护，延长反渗透膜、EDI 耗材使用寿命，降低耗材更换成本。药剂闭环自动投加，化学药剂消耗得到优化；进水水质异常自动旁路，保护贵重膜组件。纯水电阻率、TOC 指标持续稳定，保障光刻胶类电子化学品生产用水品质，降低水质波动带来产品缺陷风险。统一监控平台减少运维人员两套站点来回巡检的工作量；故障、水质异常及时告警，降低非计划停机风险。整套水系统数据接入厂务监控，管理层统一掌握生产用水与回用情况；全部历史数据自动归档，便于品质问题溯源分析。提升企业水资源回用效率，保障半导体电子材料连续稳定生产。
