本项目服务于杭州高端12英寸晶圆制造企业,主营高端逻辑芯片、功率半导体晶圆制造,晶圆光刻、刻蚀、清洗、镀膜等核心制程对超纯水水质要求达到电子行业最高标准,水中微量颗粒、金属离子、TOC、微生物等杂质都
本项目服务于杭州高端12英寸晶圆制造企业,主营高端逻辑芯片、功率半导体晶圆制造,晶圆光刻、刻蚀、清洗、镀膜等核心制程对超纯水水质要求达到电子行业最高标准,水中微量颗粒、金属离子、TOC、微生物等杂质都会直接导致晶圆良率下降、芯片报废。企业原有水处理系统水质精度不足,无法适配12英寸先进制程生产需求,制约高端芯片量产。本次项目设计超纯水产能200m³/h,日均产水4800m³,出水水质达到18.25MΩ·cm极致纯度,TOC≤1ppb、微粒≤0.05μm、金属离子趋近于零,完全满足12英寸晶圆先进制程用水标准。总承包范围包含系统整体方案设计、高端精密设备采购、无尘化施工安装、精准调试、水质检测、全生命周期运维,施工及运行全程需满足半导体无尘车间洁净标准。
针对12英寸晶圆制造极致严苛的用水标准,定制半导体顶级电子级超纯水一体化总承包方案,构建“多级预处理+核心净化+深度精制+无菌输送+精准管控”全链条工艺体系。前端采用五级超精密预处理工艺,通过多介质过滤、活性炭吸附、超滤、精密保安过滤、软化处理,彻底去除原水中的悬浮物、胶体、有机物、硬度离子,为后端高精净化筑牢基础。核心净化单元采用进口双级低压抗污染反渗透系统+高纯度EDI除盐系统,高效脱除水中99.9%以上的可溶性盐类、金属离子、微量杂质。末端配置双级抛光混床深度精制系统,进一步提纯水质,将电阻率稳定提升至18.25MΩ·cm极致标准,搭配专用TOC降解、紫外杀菌、微滤除微粒装置,精准控制微量有机物、微生物、细微颗粒杂质。全程采用316L无菌不锈钢密闭管路输送,杜绝空气、粉尘二次污染,适配无尘车间洁净环境。搭建半导体专用智能高精度运维平台,实时毫秒级监测电阻率、TOC、微粒、金属离子等十余项精密指标,数据全程溯源、异常自动预警、系统智能微调,保障水质零波动。采用无尘化模块化施工,全程不影响芯片车间正常生产。
项目投运后,超纯水水质持续稳定达到电子级最高标准,18.25MΩ·cm极致纯度恒定输出,各项微量指标全部达标,完美适配12英寸晶圆先进制程生产需求。极致纯净的工艺用水彻底解决了因水质杂质导致的晶圆划痕、电路缺陷、芯片报废问题,企业晶圆生产良率提升4%以上,高端芯片量产能力大幅提升,有效降低产品报废损耗成本。系统全自动化、高精度智能管控,实现24小时无人值守稳定运行,设备故障率趋近于零,运维成本极低。模块化无尘施工模式保障车间生产零中断,为企业挽回巨额停产损失。整套系统水利用率达到83%,远超行业普通纯水系统,节水节能成效显著。设备及工艺适配半导体高端洁净生产场景,无二次污染、运行稳定、精度持久,系统使用寿命可达15年以上。作为高端半导体超纯水标杆项目,有效助力企业突破先进制程用水技术瓶颈,支撑高端芯片国产化量产。